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平面抛光轨迹对于抛光性能的影响

文章出处:本站原创 责任编辑:kefu 发表时间:2018-09-28 09:24:45【

 精美绝伦的打磨效果,即是人们对于抛光精度的追求,在行业内,通常称之为抛光性能,其在市场的热衷程度受到了抛光机械的采购乃至供货商的广泛关注。因此,从根本上来说,它也是影响抛光性能的至关重要的因素之一。平面抛光机的抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动,有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹,行星式研磨轨迹等等。

 
  下文分述:
  定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光机就是这种。
  不定偏心式研磨轨迹,其均匀性明显好于定偏心式轨迹,有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光机的研磨抛光轨迹就是这种类型。
  直线式研磨使用的不是抛光盘,而是具有柔性的砂带,工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光机自修整机构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单,如将研磨带加长可以形成批量生产,生产效率高。
  摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势,是工件加工面中心处有凹陷的现象。
  行星式平面研磨运动轨迹最常见用于双面研磨机,当改变研磨盘转速和太阳转速之比时,工作效率及材料去除率会发生变化。
 
  影响抛光机性能展示的因素有很多,并非只局限于在抛光轨迹上,上文的意义旨在强调抛光轨迹至关重要姓,希望引起行业内人士的重视和警醒。
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